Fel y gwyddom i gyd, dim ond un gwneuthurwr sydd yn y byd, yn gallu cynhyrchu lithograffeg EUV, ASML yr Iseldiroedd ydyw.
A'r rheswm pam mai dim ond un yn y byd, mae hyn oherwydd y bydd ASML yn llawer o weithgynhyrchwyr allweddol wedi'u bwndelu gyda'i gilydd, megis y cwmni opteg Almaeneg Zeiss (Zeiss), ac yna'r Unol Daleithiau Cymer, ac yna'r Almaen Tom Fast Group (TRUMPF ) ac yn y blaen.
Mae ASML wedi clymu'r gweithgynhyrchwyr hyn i'w gerbyd trwy fuddsoddi, caffael, cyfranddaliadau, sefydlu canolfannau ymchwil ac yn y blaen, a'r gweithgynhyrchwyr hyn, yn ôl pob tebyg, yw'r unig weithgynhyrchwyr yn y byd sy'n gallu cynhyrchu'r cynhyrchion hyn, felly yn y pen draw dim ond ASML sy'n gallu cynhyrchu lithograffeg EUV yn y byd.
Fodd bynnag, yn ddiweddar, rhedodd cadwyn gyflenwi allweddol o ASML, i Shenzhen, Tsieina i adeiladu ffatri, ymgartrefodd ei is-gwmni Shenzhen ym Mharc Arddangos Diwydiannol Baoan Sino-Almaeneg (Ewrop).
Y gwneuthurwr hwn yw Tom Fast Group (TRUMPF) yr Almaen, dyma lithograffeg EUV ASML, yr unig gyflenwr ffynhonnell laser yn y byd.
Cynhyrchion TRUMPF yn lithograffeg EUV, pa mor bwysig? Yn gyntaf, gadewch imi egluro egwyddor lithograffeg EUV, byddwch yn deall.
Mae egwyddor lithograffeg EUV, i'w roi'n syml, yn canolbwyntio ar dair system fawr, system ffynhonnell golau UV EUV, system lens gwrthrychol, a system bwrdd.
Y broses benodol yw defnyddio'r laser i gyffroi tonfedd 13.5 nm o olau uwchfioled eithafol, ac yna ar ôl ei gywiro i ffurfio pelydryn o olau wedi'i reoli, ac yna caiff y pelydryn hwn o olau ei daflunio ar y bwrdd mwgwd ffoto, ac yna ei daflunio trwy'r amcan drych i'r bwrdd amlygiad, ac yn olaf ysgythru allan y gylched ar y wafer silicon gorchuddio â photoresist.
Sut y ceir un o systemau ffynhonnell golau UV EUV yw trwy beledu defnyn metel tun (Sn) gyda laser CO2 pŵer 30 kW, ei anweddu i mewn i blasma, ac yn olaf cael y golau EUV tonfedd 13.5 nm.
Darperir y laser CO2 30 kW hwn gan TRUMPF, yr unig un o'i fath yn y byd.
Peidiwch â diystyru'r laser CO2 hwn, mae ganddo 457,329 o rannau, mae hyd y cebl yn y system hyd at 7,322 metr, ac mae'r pwysau yn 17,090 kg, sef un o'r cydrannau craidd pwysicaf yn lithograffeg EUV.
Nawr rhedodd TRUMPF i Tsieina i adeiladu ffatri, mae'r bwriad yn glir, hynny yw, yn optimistaidd am y farchnad laser Tseiniaidd, a hyd yn oed yn fwy hirdymor barn, optimistaidd am y farchnad lithograffeg Tsieineaidd, efallai y bydd y dyfodol yn cydweithredu â Tsieina i adeiladu EUV lithograffeg .
Mewn gwirionedd, mae mwy nag un gadwyn gyflenwi ASML eisoes yn rhedeg i Tsieina i adeiladu ffatri, cyn bod KMWE a gweithgynhyrchwyr eraill, hefyd i Tsieina i adeiladu ffatri.
Yn ôl y duedd bresennol, gallwn ddisgwyl yn optimistaidd efallai na fydd yn hir cyn y bydd technoleg lithograffeg Tsieina yn gam mawr ymlaen, a gall hyd yn oed cyfaint allbwn lithograffeg EUV, hefyd edrych ymlaen at, yn eich barn chi?
